晶粒取向檢測,第三方檢測及機構(gòu)
晶粒取向是指晶體中晶粒的晶軸和某一方向的夾角。晶粒取向與材料的結(jié)構(gòu)性質(zhì)、力學性質(zhì)、熱學性質(zhì)、電學性質(zhì)、磁學性質(zhì)等密切相關(guān)。
晶粒取向分析、晶體取向演化分析、晶界分析、晶粒大小測量、晶體缺陷分析、晶體結(jié)構(gòu)分析、晶體應(yīng)力分析、晶體生長方向分析等。
金屬材料:銅、鋁、鐵、鋅、鈦、鎳、鋼、鉛等。
半導體材料:硅、鍺、鎵、砷化鎵、砷化銦、砷化鋁、碳化硅、磷化銦等。
聚合物材料:聚丙烯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚酰胺、聚酯、聚碳酸酯、聚醚酮等。
陶瓷材料:氧化鐵、氧化鈦、硅碳化物、氧化鋯、氧化鋁、硅酸鹽陶瓷、氧化硅、氧化錫等。
復合材料:碳纖維復合材料、聚合物基復合材料、納米復合材料、玻璃纖維復合材料、陶瓷纖維復合材料、金屬基復合材料、生物基復合材料、纖維增強復合材料等。
晶粒取向檢測主要涉及通過電子背散射衍射(EBSD)技術(shù)來分析材料的晶體結(jié)構(gòu),包括晶粒的顏色和晶體學數(shù)據(jù)的對應(yīng)關(guān)系,以及通過數(shù)據(jù)庫建立和儲備,記錄不同金屬材料、不同取向晶粒的腐蝕條件。這一過程包括以下幾個關(guān)鍵步驟:
數(shù)據(jù)采集:使用電子顯微鏡和相應(yīng)的EBSD系統(tǒng)對材料表面進行掃描,獲取電子背散射衍射圖像數(shù)據(jù)。
圖像處理:對獲得的圖像數(shù)據(jù)進行預處理,包括去噪、圖像配準和校正等操作,以確保后續(xù)分析的準確性和可靠性。
晶粒檢測:利用圖像處理算法識別出不同晶粒的位置和形狀。
晶粒取向計算:針對每個檢測到的晶粒,利用衍射圖案的特征信息計算其晶粒取向,包括晶軸方向和晶面取向等信息。
數(shù)據(jù)分析:對提取的晶粒取向信息進行統(tǒng)計分析和可視化展示,可以得到晶粒取向分布、晶界取向關(guān)系等信息,為材料微觀結(jié)構(gòu)和性能的研究提供數(shù)據(jù)支持。
SN/T 3112-2012 冷軋硅鋼片晶粒取向性鑒別方法
YB/T 5224-1993 晶粒取向硅鋼薄帶
GOST R 53934-2010 晶粒取向電工鋼帶.規(guī)范
KS D 3803-1994 晶粒取向磁鋼薄板及鋼帶
GOST R 54480-2011 非晶粒取向電工鋼帶.技術(shù)規(guī)格
FD CEN/TR 17856:2022 無晶粒取向電工鋼清漆性能的測量
SN/T 4563-2016 電工鋼片(帶)晶粒取向性鑒定方法 金相法
SPC GB/T 37593-2019 特高壓變壓器專用冷軋晶粒取向電工鋼帶
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